我们生活中一样平常将制造难度极大的工业产品冠以“工业皇冠上的明珠”的雅号，但如果说真正意义上的“工业皇冠上的明珠”,那么便是：航空发动机和光刻机，最前辈的航空发动机目前的时价在千万美元量级，而最前辈的光刻机目前的时价已经由亿美金。
中科院光电技能研究所研制的中紫外光刻机
光刻机通又叫做掩模对准曝光机，全体光刻过程我们可以理解为在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路构造临时“复制”到硅片上的过程。普通的来说光刻机便是极大规模机集成电路的制造设备，其结合了光学、掌握、材料、机器、丈量等多个领域的高端科学技能实用研究成果。光刻机的发展水平对付全体半导体芯片的集成电路以及终极性能有着决定性的浸染，可以说谁节制了最高真个光刻技能，也就节制了天下半导系统编制造业的生产格局。以是从主要程度来看，光刻机是集成电路技能个中含金量最高的部分。
晶圆光刻出繁芜的构造
芯片的集成程度取决于光刻机的精度，光刻机须要达到几十纳米乃至更高的精度，光刻机的两套核心系统——光学系统和对准系统的精度越高，可以在硅片上刻的沟槽越眇小，芯片的集成度越高、打算能力就越强。
目前，天下上80%的光刻机市场被荷兰公司霸占，而前辈的光刻机技能也一贯以来都节制在极少数发达国家手中，高端光刻机也被其垄断，而且光刻机更新换代的速率非常快，险些每两年就会有新一代的光刻机涌现，这对付处于发展中的我们，尤其是在光刻机的研发领域而言无疑是十分痛楚的，由于技能的封锁垄断和综合科技水平的掉队，就算致力于发展光刻机技能，每每花费数年研制出光刻机却也是比国外的光刻技能晚了两到三代的水平，如果追赶不上，这就会直接导致一个国家的整体科技领域发展要受制于人，各项科学研究更是会频频受阻。而且，最主要的一点，我们将除了花费高昂的价格并跪下祈求着购入前辈的半导体工业设备外别无它路。想像一下，我国半导体芯片的需求量如果供不应求，那么小到我们每天都要打仗的手机、条记本等日常电子设备，大到与国家安全干系的导弹卫星、航天科技等高科技产品靠什么生产运转！
荷兰ASML光刻机
中国正在努力追赶，虽然目前仍与国外存在技能代差——但是这不是说我们的追赶不主要，如果我们不做出来，国外就可以想怎么卖就怎么卖，卖不卖、卖什么型号、卖多少钱都不由我们，而我们做出来了，纵然是掉队，未来也就有希望遇上，只要我们努力追赶不言放弃，我相信在未来一定会改变这种被动的局势。
