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打印电路时，其事理与摄影显影技能类似。先把晶圆涂上特制的胶水（俗称光刻胶），再用特定光芒照射这些胶水，产生化学反应，在晶圆表面‘烧蚀’出刻痕。
这种特定的光芒一样平常取紫外光芒，由于其随意马虎被大多数物质所接管。一样平常采取两个波段的光芒来进行刻画。
一个叫深紫外线DUV，一个叫极紫外线EUV，波长分别为193nm和13.5nm。按照毛发75um的关系来换算，DUV的波长相称于头发的325分之一，另一个相称于头发的7500分之一。波长相称于刻刀的宽度，越细越精密。
（图片来自网络侵删）
如DUV只能用来刻画生产22nm的芯片，而EUV光刻机可生产7nm芯片（因光路系统可进一步把光刀放缩到原波长的¼）。所谓多少纳米的芯片，便是芯片上刻痕的宽度。
当前最前辈的光刻机当属荷兰ASML公司的EUV光刻机，估量在光路系统的帮助下，可以刻画出2-5纳米的芯片。
而EUV光刻机中最核心的设备便是EUV光源，EUV光源必须要足够亮才能担保光刻机高效事情，单台光刻机目前可达每小时120个高端芯片的产量。
EUV光源的事理如下小视频所示：
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在真空腔体中，将高温熔融并加电磁场使其处于等离子体状态的锡，使其从喷枪中等间隔喷出，并担保每个锡滴的大小保持在7.5um旁边。
当锡滴经由腔体中央区域时，安装在激光腔壁上的高分辨率相机捕捉到了经由的锡滴，反馈给打算机，打算机掌握激光枪连续发射两个脉冲击中该锡滴体。
第一个激光脉冲可使锡滴压扁为饼状，第二个脉冲紧随其后再次击中该锡滴（已经是饼状了），两次高能激光脉冲可将该锡滴瞬间加热至50000K，从而使锡原子加至高能态，并回归至基态开释出13.5nm的紫外光子。
喷枪每秒大约开释5000个锡滴，每一个都重复上述过程，从而产生源源不断的EUV光芒。
