如何评价 SEM 图片 的质量 ？ 这是一个颇为繁芜的问题，涉及到主不雅观成分。 SEM 图的解读须要不雅观察者根据自己的履历和知识进行剖析和判断，个中不雅观察者的主不雅观偏见或期望可能会影响对图像的解读，比如刻意避开不理想的区域，选择局部 OK 区域来代表自己的预期。
如果忽略主不雅观成分， 那怎么才算一张 高质量 的 SEM 照片呢？
从视觉感想熏染出发： 1. 要具备 高分辨能力 ，能够清晰地显示样品的细节和显微构造，边界锐利，不模糊。 2. 衬度适中 ，突出样品的特色，使不同部分易于区分。 3. 低噪声 ， 具有足够的信噪比，实现图像细节的高清度（把稳，这个和分辨率还不是一个观点，可以理解为单位像素点上束流密度变大了）。 4. 无失落真 ，尤其是在低倍数下，保持样品的原始形状和比例，避免图像扭曲或变形，有助于进行准确的丈量和剖析。 5. 足够的景深 ，对付具有层次感的样品，譬如多孔材料或金属断口，须要使全体样品都能清晰成像，而不仅仅是表面。 6. 要有代表性 ，能够准确地代表样品的整体特色，不是局部或非常的表现，这对付得出可靠的结论和进行比较研究很关键。 7. 准确的标注 ：包括哪种放大倍数，事情间隔，探测器等必要的标注，使其他人能够理解图像的干系参数信息，有助于图像的互换和引用。 8. 符合研究目的 ：能够知足研究或剖析的特定需求，与研究问题或目标干系，能为研究供应有代价的信息和证据。
图 1 陶瓷过滤膜截面。低加速电压不镀金成像，可辨别支撑体上不同 孔 尺寸的 3 层过滤膜，膜层颗粒堆积的形态以及颗粒表面细节。图注： 着陆 电压 500V ，减速电压 2KV ，束流 25pA, 赛默飞 Apero2T1 探测器。
图 2 陶瓷过滤膜截面。低加速电压不镀金成像，可清楚的辨别支撑体上不同孔尺寸的 2 层氧化锆过滤膜，膜层颗粒堆积的形态。图注： 5KV ，束流 50 pA, 赛默飞 Apero2 T1 探测器。
有了以上 SEM 照片 质量 的评价标准，那么，对付电镜操作员来说，如何得到 高质量 的图片呢？
这也是一个比较繁芜的问题，细分来说，可以从以下几个角度考虑： 1. 样品制备， 2 选择得当的仪器参数 ，比如加速电压，事情间隔，束流大小等， 3. 聚焦和合轴 ， 4. 选择 得当的探测器 ， 5. 选择得当的扫描速率， 6 图像的后期优化处理。
总的来说，须要通过实践和履历积累，节制如何调度参数和优化成像条件。同时把稳不雅观察图像中的细节和非常，及时调度参数以得到更好的结果。其余，作为初学者，须要与有履历的 SEM 操作职员、研究职员或工程师互换，从他们那里得到履历和技巧。也可以积极参加培训课程或研讨会，提高自己的技能水平。
下面将 基于样品制备和设备参数调度与操作的角度，就 如何获取 高质量 的 SEM 图片进行阐述 。
1 样品 制备要获取高质量的图片，样品制备至关主要。处理不当的样品会导致不雅观察假象，对付大多数样品的哀求是，应干燥且导电，以得到最佳效果。
图 2 SEM 样品制备的流程：干燥样品和含水样品。
SEM 中生物样品的制备步骤一样平常包括： 1 取材：选择得当的生物样本； 2 洗濯：去除表面的杂质； 3 固定 ：利用化学试剂固定样本； 4 脱水 ：通过梯度脱水处理； 5 干燥 ：选择适当的干燥方法； 6 镀膜：常日利用金、铂等金属进行镀膜，增加导电性； 7. 不雅观察：将制备好的样品放入 SEM 中进行不雅观察。
在全体制备过程中，须要把稳以下几点：只管即便保持样本的原始构造和形态。掌握每个步骤的条件，以确保样品的质量。避免污染和损伤样品。
1.1 生物样品：固定
图 3 葡萄与葡萄干，构造发生了明显的改变
生物样品的制备步骤常日常日须要繁芜且周期长，包括固定、脱水和干燥。一旦样品完备干燥，就可以将其安装在 SEM 样品上，然后镀膜或者不镀膜不雅观察。
生物样品的制备流程紧张涉及以下步骤：
化学固定（ Chemical fixation ）： 化学固定法是将样品浸入化学固定液中。常日利用的是含 3% 戊二醛在 0.1M 缓冲溶液（如 Sorrenson 磷酸盐缓冲溶液）， PH 值取决于组织，植物组织常日利用 6.8 ，动物组织常日利用 7.2-7.4 。磷酸盐缓冲液无毒，戊二醛可交联蛋白质，使样品更坚硬。
组织一样平常在固定液中浸泡 1-2 小时（取决于样品大小），温度为 4℃ ，有时也可在室温下浸泡。然而，用于 SEM 的样品可在固定液中存放数周而不会明显降解。利用带有散热片的 BioWave 微波炉可加快固定过程。
一次固定后常日会用缓冲液洗濯，然后进行第二次化学固定，以稳定部分脂质身分（脂肪酸）。在室温下（ 在透风橱内！
），将 1% 的四氧化锇溶于缓冲液（如 0.1M 的可可碱缓冲液）中 1 到 2 小时 。
备注：在 SEM 生物样品制备的梯度脱水过程中，常用的乙醇或丙酮浓度依次为： 30% 乙醇或丙酮：浸泡一段韶光。 50% 乙醇或丙酮：再浸泡一段韶光。 70% 乙醇或丙酮：连续浸泡。 90% 乙醇或丙酮：浸泡一定韶光。 100% 乙醇或丙酮：终极脱水。
详细的浓度参数可能因生物样品的类型、大小和特性而有所不同。
蒸汽固定（ Vapour fixation ） ：不是所有的样品都适宜化学固定，有些样品就很随意马虎破坏，因此不可能浸入液体中。这对付真菌及其子实体 ( 分生孢子 ) 来说尤其如此，它们在打仗时会从母体植物等分离出来。
蒸汽固定利用一滴固定剂，放在密封容器中靠近样品的地方。在切下的受传染的叶片材料的情形下， 用 4% 的四氧化锇水溶液，在大约 1 小时内固定样品 。样品固定后会变黑，这有助于评估进度。一旦固定，样品可以放在用液氮冷却的金属块上冷冻，然后冷冻干燥。
冷冻 固定（ Cryofixation ）： 快速冷冻含有液体或水的样品会使液体变成固体，而不会形成很多晶体。有许多冷冻样品的装置。高压冷冻是最新的技能，可以产生最好的形态，但是它们须要极小的样品量（非常适用于 TEM ）。对付 SEM 来说，将样品放入液氮流体或液氮泥浆中常日就足够了，或者可以将在 SEM 样品仓中通过冷台来冷冻样品。
一旦冷冻，样品就可以很随意马虎地不雅观察样品的原始描述，这也可以避免切割软材料造成的破坏。常日须要在冷冻样品上镀上一层金属不雅观察。冷冻样品可以在冷冻状态下保存很永劫光，这个流程涉及到的安全问题包括冻伤和氮气窒息。
1.1 生物样品：干燥
冷冻干燥（ freeze drying ）： 冷冻干燥通过蒸发撤除样品中的冷冻水，也便是说，水分子没有先转化为水就从冰中消逝了，这个过程很慢，但如果做得好，常日可以让样品保持无缺和完备干燥。优点是 避免了危险的化学固定剂 。
样品一样平常放在大型预冷金属块的凹陷处，一旦进入冷冻干燥室，就打开真空，让机器在零下 30 度旁边运行 3 天旁边。
须要把稳的是，由于干燥后样品的重量比比较轻，以是在干燥过程结束时，必须小心将空气引入室内，否则样品会被风吹走而丢失。
临界点干燥（ Critical point drying ， CPD ） ：样品中的水逐渐被乙醇取代，乙醇随后被液态二氧化碳取代。然后增加容器的压力和温度，直到 CO2 达到临界点，从液相变成气相。这样可以避免风干过程中造成的破坏，从而保护样品构造。
化学干燥（ Chemical-drying ） ： CPD 的替代方法是利用六甲基二硅烷或 HMDS ， 没有水的挤压表面张力，乃至没有乙醇蒸发造成的危害。
溶剂 ( 优选乙醇 ) 中的样品可以作为 50:50 的溶液引入 HMDS ，然后变成 100% HMDS (2 次变革 ) 。末了一次改换时，可以将溶液排干，直到刚好挡住样品，然后放在透风柜中蒸发。 对付非常小的样品，这可能须要几分钟的韶光，对付较大的样品，这可能须要几天的韶光 。
对付不适宜 CPD 室的大样品，或者载玻片 / 硅片上的样品，这是 CPD 的有用替代方法。然而，并非所有来自 HMDS 的样品都能成功干燥。此外，为了安全起见，不要吸入 HMDS 蒸汽，也不要将任何混有乙醇的溶液储存在封闭的瓶中，由于蒸汽压力会增加并导致爆炸。
此外，高分子聚合物样品可以是湿的，也可以是干的。如果它们是湿的 ( 或含有大量的水或液体 ), 则须要在 SEM 检测之提高行干燥。高分子聚合物质料常日不须要进行固定，但必须打消个中的液体。凝胶类多孔高分子聚合物样品，常日采取冷冻干燥，一旦样品完备干燥，就可以将其安装在样品台上，然后镀膜或不镀膜不雅观察。
1.2 材料样品的表面不雅观察
图 4 不同材料的样品制备方法：不雅观察表面
1.3 材料样品的截面不雅观察
图 5 不同材料的断面制备方法：不雅观察断面
我们关注材料的信息，常日是关注样品的表面或内部细节，因此以上也针对不同材料的表面和断面制备进行了大略的总结，这里就不再对各工艺细节进行详细的阐述。后续也会有专题对样品制备进行就行详尽的谈论。
图 6 只管即便让块体或大颗粒粉末状样品跟金属衬底保持导电通路
要利用 SEM ，必须首先将样品放入样品室。由于样品室保持真空，必须将干燥的空气或氮气引入样品室，以便打开样品室并将样品放在载物台上。只管即便不要让样品仓门开太久，如果腔室没有保持在真空下，抽气韶光会增加，并且长期这样操作，污染会在腔室内逐步积聚。
2 仪器参数的调度
为什么要调度仪器参数？首先，优化图像质量，通过调度参数，可以得到更清晰、更详细的图像。其次，适应样本特性，不同的样本可能须要不同的参数设置。第三，提高分辨率，以更好地分辨样本的微不雅观构造。第四，掌握电子束强度，避免对样本造成过度损伤。第五，调度 衬度 ，增强图像的 衬度 ，便于不雅观察。第六，优化景深使全体样本都能清晰成像。第七，适应不同的放大倍数，确保在不同放大倍数下都能得到良好的图像。
2.1 加速电压
理论上，加速电压的增加将使 SEM 图像中的旗子暗记更多、噪声更低。但实际情形并非如此大略。高加速电压成像有一些缺陷 : 1. 高加速电压可穿透较厚的样品，但在 SE 模式下，对样品 表面构造细节的分辨能力降落 ， 低加速电压则适用于表面成像 ； 2 绝缘样品中的电子堆积增加，造成 更严重的充电效应 ； 3 在样品中传导的 热量会增加 ，可能导致样品损伤，尤其是对热敏感的材料。
图 7 不同加速电压下，电子束与样品的相互浸染体积不一样，高加速电压穿透的更深
图 8 不同加速电压带来的成像效果差异。 1KV 加速电压下，呈现更多的表面细节。赛默飞 Apero2 T1 探测器。
图 8 加速电压选择的一样平常操作指南。对付电子束敏感材料以及须要不雅观察样品极表面细节的样品，常日须要更低的电压和更低的束流。
2.2 光阑
图 10 物镜 光阑对电子束路径的影响示意图
物镜 (OL) 光阑 ：该光阑用于减少或打消外来（散射）电子。 操作员 应选择最佳的光阑，以得到高分辨率的 SE 图像。
物镜 光阑 安装在 SEM 物镜的上方 ， 是一根金属杆，用于固定一块含有四个孔的金属薄板。在它上面装有一个更薄的矩形金属板，上面有不同大小的孔（光阑）。通过前后移动机械臂，可以将不同大小的孔放入光束路径中。 这都限于老式扫描电镜， 当代电镜通过静电偏转到想要的孔，不是机器移动。
图 11 机器臂上有一个细金属条，上面有不同大小的孔，这些孔与较大的孔对齐 ， 该金属条被称为光阑条 。 孔直径从 20 微米到 1000 微米不等
大光阑 可 用于低倍成像以增加旗子暗记，也可用 BS E 成像 和 EDS 剖析事情。小光阑用于 高分辨率事情和更好的 景深 ，但缺陷是到达样品的电子较少，因此图像亮度 和信噪比 较低。
在 SEM 设备 校准过程中，为了天生良好的图像， 须要检讨光阑，以确保其环绕光束轴居中 ， 这可以通过利用晃动 （ Wobbler ） 掌握来实 现。如果创造图像旁边移动，则须要在 X 或 Y 方向（进出或旁边移动）调度光阑，调度时只需微微旋转相应的旋钮，直到图像停滞 移动 为止。 当电子束直径在样品表面达到最小值时，聚焦效果最佳。图像应清晰明确。
2.3 束斑尺寸
图 12 不同束斑大小对图像分辨率的影响
当在相同的放大倍率、电压和事情间隔下利用不同的束斑尺寸拍摄图像时，很随意马虎看出不同系列图像在模糊度（分辨率）上的差异。 表达 束斑大小的办法取决于所用 电镜 的 厂家和 型号。
对付任何一个放大倍率， 勾留点（图中一行中的光点）的数量都是恒定的 ，因此 束斑 点尺寸太小会导致没有旗子暗记产生的间隙， 束斑 尺寸太大会导致旗子暗记重叠和均匀。
束斑尺寸会随着一些参数的改变而改变 。例如，长事情间隔 （ WD ）下 的束斑尺寸比短 WD 的 大。物镜光阑越小，束斑尺寸越小。此外，无论利用哪种 WD ，聚光透镜 流过 的电流越大 （勉励强，聚焦效果好） ，样品上的束斑就越小。
因此，当 WD 较小、聚光透镜 勉励 较高、光阑较小时，我们 就能实现 最小的束斑尺寸。这三个参数是相互影响的，须要仔细 权衡， 才能得到最佳图像，由于它们还会影响其他参数，如焦距和电子旗子暗记强度。
2.4 事情间隔 （ WD ）：分辨率与景深
图 13 事情间隔（ WD ）示意图
备注：对付 ET 探测器来说，缩短 WD 带来高分辨率的效果是不足显著的。对付大部分镜筒内电子探测器，缩短 WD 能显著提高分辨率。这也是我们常常看到，高倍数的照片都是在短 WD 下拍摄的，极度情形下， WD 可以＜ 1mm 。
在许多 SEM 中，外部事情间隔 (Z) 掌握 杆可 用于升高或降落试样 ， 该值常日被误认为是准确的事情间隔。然而，真正的事情间隔 (WD) 因此电子办法丈量的，即样品表面聚焦点 到极靴下表面的间隔 。 外部 Z 掌握（机器掌握）值与图像屏幕上供应的 WD 值不同有三个缘故原由。
只有当电子束准确聚焦到试样表面时， " 屏幕上 " 的 WD 值才是准确的丈量值。聚焦不敷或聚焦过度的图像会供应虚假的 WD 值以及模糊的图像。
外部 Z 值和准确聚焦试样的真实 WD 值会有所不同，由于这两个丈量值可能是从试样架上的不同点丈量的。试样如果不是均匀平整的，不同的描述特色会有不同的真实 WD 。
景深是指试样在肉眼看来可接管的聚焦 垂直范围 。在 SEM 中，图像 景深 的 " 范围 " 常日比光学显微镜大 上百 倍，因此许多 SEM 显微照片险些都是三维的。
图 14 不同事情间隔带来的景深效果不一样， WD 越大，景深越好
2.5 图像的衬度和 亮度
SEM 图像是 根据 从样品材料中射出的电子数 来 构建的强度图（数字或仿照）。 SEM 中每个驻留点的电子旗子暗记以像素的形式在屏幕上逐行显示，从而形成图像。每个点的旗子暗记强度反响了从描述或身分中产生的电子 多少 。通过旗子暗记处理，每个 电子 的旗子暗记信息（从光束的每个驻留点得到）都可以在显示之前被转换成与原始值 有严格关系的新值 。这样，我们就可以通过 调度旗子暗记来改变终极图像的 衬度 和亮度 。
Brightness 统一翻译成亮度 ，但 在扫描电镜中，图像的亮度和电子枪的亮度观点是不一样 的。图像的亮度指扫描电镜所成图像的明暗程度，它反响了被不雅观察样品表面的特色和信息。电子枪的亮度：是电子枪发射电子束的强度指标。两者的差异在于：图像亮度是不雅观察结果，而电子枪亮度是电子枪的发射特性。图像亮度受多种成分影响，如电子枪亮度、样品性子、探测器效率等。
在这种情形下，我们会看到图像中有很多玄色或白色区域。 质量好的图像具有灰度渐变 ，只有极少部分是全黑或全白的。旗子暗记处理技能可以处理自然 衬度 ，使眼睛可以通过图像中的 衬度 感知信息。虽然 旗子暗记处理技能许可用户对自然 衬度 进行处理，但并没有增加信息，只是增强了已有的信息 （因此，这种图像处理技能不属于对已有信息的修改） 。
该当把稳的是， 旗子暗记处理会极大地改变图像的外不雅观 ，使其与常日预期的不同， 因此 SEM 操作员有责任解释是否进行了处理 。不过，常日情形下，利用 衬度 和亮度旋钮调度图像质量 是被认可的图像处理流程 。但是，如果为了使 SEM 图像看起来更清晰而进行了一些其他处理，则应在 正式 报告中解释 详细的 处理的 办法 。
旧型号的 SEM 一样平常都 须要手动调度衬度 和亮度 。 更当代的机器则依赖 软件程序 自动调节，辅以机器操作员的喜好 ：一键操作，提高事情效率 。 但须要把稳的是，人眼对图像衬度和亮度的感知或审美，每每和软件打算的结果并不一致，由于为了更好的图片质感，还须要依赖手动调节。
倾斜 样品可以 增加 SE 衬度： 增加 SE 衬度 的另一种方法是倾斜样品，使其与探头成一定角度（常日为 30° 至 60° ）。倾斜的结果是，每单位投影试样面积会产生更多的 SE ，从而使亮部和暗部的分布更加明显，从而增强 衬度 。
2.6 放大和校准
图 15 随着扫描区域的不同，放大倍数也会随之改变
图像的放大倍数常日会在屏幕上给出一个数值（如 2000x ）。图像上还会有一个刻度条，代表精确的间隔单位。
在扫描电镜中，常日涉及到两个倍数，一个是底片倍数，一个是显示倍数。底片倍数，指扫描电镜获取图像时，实际拍摄到 5 英寸底片上的放大倍数。显示倍数是指在显示器上显示的放大倍数。初学者搞不清楚底片倍数和显示倍数的差异，同样的细节长度，显示倍数常日会比底片倍数高 2-3 倍，因此，衡量物体尺寸的大鄙视标尺刻度，而不是放大倍数。
SEM 的基本掩护包括定期检讨放大倍率的校准 。在标准条件下对标准样品（如 光栅 网格）进行成像。对图像上的特色进行丈量，并与给定的放大倍率或刻度条进行比较，以确保达到精确的尺寸。如果禁绝确，可以遵照校准程序。
在标准条件下，屏幕上显示的放大倍数可能包含 2-5% 的偏差 。在许多情形下，这种不愿定性是可以接管的。但是，如果所做的事情须要很高的精确度 （尤其是半导体行业的精确丈量） ，则必须利用与实验条件完备相同的条件和校准标准来校准系统，校准标准的特色应与您希望在实验中丈量的特色的尺寸密切匹配。例如，如果须要丈量直径为 500nm 的颗粒大小，校准样品应包含相同大小的特色。
2.7 扫描速率和信噪比
如果须要 采集 高质量的 图像 ，以 供日后利用或出版时，常日会降落扫描速率。较慢的扫描速率可以在 电子 束扫描线上的每个 像素 点网络到更多的电子。这样可以天生质量更好的图像。
图 16 左图随着信噪比的增加，图像质量也会提高
钨（ W ）灯丝的特点 是亮度 低，导致成像 的电子束流密度 低。因此，在聚光透镜设置为高分辨率成像时（小束斑尺寸），到达试样的电子数量较少。因此， SE 产量低，为了天生 高质量的 图像，必须利用大 束 流 ， 这就 填补了 信噪比 的不敷，但同时也带来了分辨率的低落 。为了战胜 W 灯丝的 亮度 限定并提高信噪比，人们开拓了场发射枪 (FEG) 等通亮 相关 光源。
2.8 图像 的假象：像散 / 边缘效应 / 充电效应 / 电子束损伤和污染
要得到完美的图像，须要 根本理论 知识和实践，并且须要在许多成分之间进行权衡。 这个过程 可能会碰着一些 棘手的 问题。
像散
像散 是图像中最难精确校正的调度之一，须要多加练习。 下图 中间的图像是经由 像散 校正的精确聚焦图像。左图和右图是 像散 校正不佳的例子，表现为图像涌现 拉伸的 条纹。
为实现精确成像，电子束（探针）到达试样时的横截面应为圆形。探针的横截面可能会扭曲，形成椭圆形。这是由一系列成分造成的，如 加工精度和磁极片的材料、铁磁体铸造中的毛病或铜绕组 。这种变形称为 像散 ，会导致聚焦困难。
图 17 像散示意图，完备肃清像散的图片如中间所示
为了使探针呈圆形，须要利用 像散校正 器。这包括以四边形、六边形或八边形方向放置在 镜筒 周围的电磁线圈。这些线圈可以调度 电子 束的形状，并可用于校正任何重大的透镜变形。
在放大 10,000 倍旁边的情形下，将物镜调度到欠焦或过焦时，如果图像在一个方向或另一个方向上没有条纹，则一样平常认为图像没有 像散 。在 1000 倍以下的图像中， 像散 常日可以忽略不计 。
校正 像散 的最佳方法是将 X 和 Y 像散 器设置为零偏移（即不进行 像散 校正），然后尽可能风雅地对焦样品。然后调度 X 或 Y 消像散 器掌握（不能同时调度）以得到最佳图像，并重新对焦。
边缘效应
图 17 边缘效应产生示意图
充电 效应
电子在样品中聚拢并不受掌握地放电会产生充电征象 ， 这会产生不必要的 假象 ，尤其是在二次电子图像中。当入射电子数大于从样品中逸出的电子数时， 电子 束击中样品的位置就会产生负电荷。 这种征象被称为 " 充电 Charging" ，会导致一系列非常效果，如 衬度 非常、图像变形和偏移 。有时，带电区域的电子溘然放电会导致屏幕上涌现通亮的闪光 ， 这样就无法捕捉到 衬度 均匀的 样品 图像，乃至会导致小 样品 从 样品台 上脱落。
要 办理 不导电样品的充电 问题 ，在 样品制备方法 上 是在样品上 镀 上一层较厚的 金或 铂 薄膜 ，这样做是为了提高表面的导电性，使足够的电子能够逸出，避免表面充电和破坏。颗粒等疏松材料常常会受到充电的影响 ，在实际操作上，这些样品都通过磁控溅射镀膜仪来镀上一层厚 3-10nm 的金属层，实验室常见的镀膜仪如下图所示：
图 19 速普的 J20 双靶离子溅射仪和 Ted Pella 108Auto 溅射仪
图 20 树脂溶液中的橡胶纳米粒子，不镀金。纵然选择 Apero2 电镜的 T2 探测器在 1KV 下成像，但依旧存在充电效应。切换到 T1 探测器，不仅能避免充电效应，还能准确丈量出溶液中的纳米颗粒尺寸。
此外，除了低加速电压成像， 具有低真空功能的 SEM 或环境 SEM (ESEM) 可用于掌握充电 效应 。
用电子束辐照试样会导致电子束能量以热量的形式流失落到试样中。较高的 加速电压 会导致辐照点的温度升高，这可能会破坏（如熔化）聚合物或蛋白质等易碎试样，并蒸发蜡或其他试样身分 ，同时也会污染镜筒 。
办理办法是降落 电子束 能量，增加事情间隔也有帮助，由于在相同的 电子 束能量下，可以在样品上产生更大的束斑，但这样做的缺陷是会降落分辨率。
与 电子 束干系的污染是指在 电子 束扫描过的样品区域沉积材料（如碳） ， 这是电子束与真空室中的气态分子（如碳氢化合物）相互浸染的结果。
图 21 采取等离子洗濯，肃清样品表面污染和假象
总之，得到满意的 SEM 图片须要综合考虑样品制备、仪器设置和图像处理等方面的成分。在样品制备过程中，须要选择得当的样品、洗濯方法和干燥方法。在仪器参数设置过程中，须要选择得当的加速电压、事情间隔和探测器类型等。在图像处理过程中，须要选择得当的图像增强、旗子暗记过滤方法。此外，还要考虑像散 / 边缘效应 / 充电效应 / 电子束损伤和污染的成分。
通过综合考虑并权衡这些成分，可以得到高质量的 SEM 图像，从而提高对材料的剖析和理解水平。
