数据显示，2023年1-6月份，我们从日本入口的感光化学品金额为5.47亿美元，同比低落9.1%，占所有感光化学品比例约为51%。
而在2022年的时候，我国感光化学品入口总额23.50亿美元，从日本入口额12.05亿美元，占比51.3%。
也便是说，最近一年多以来，中国的光刻胶入口中，有一半多来自于日本，中国高度依赖日本的光刻胶。
事实上，不但是这一年多以来，统计最近10年以来，日本光刻胶入口占比，一贯就超过50%，日本一贯是我国感光化学品入口的第一大来源国。
不仅中国高度依赖日本的光刻胶，可以说环球都依赖日本的光刻胶，包括美国、韩国、欧洲等。
光刻胶是芯片光刻工艺中最紧张的、最关键的材料。
按照种类可以分为G线光刻胶（436nm）、I线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）、EUV光刻胶（13.5nm）这么几种。
而这几种光刻胶对应的芯片工艺是>0.35um、>0.35um、0.15-0.25um、7-130nm、<7nm。
很明显，光刻胶与光刻机一样，是逐一对应的，个中像ArF光刻胶，也分为两种，干法紧张用于130-65nm工艺，浸没式紧张用于65-7nm工艺。
而目前环球光刻胶市场紧张被日本和美国公司垄断，日企环球市占率约80%，处于绝对领先地位。
而从详细的光刻胶类型来看，在g线/i线、KrF、ArF、EUV光刻胶市场中，日本企业的市占率分别为61%、80%、93%，100%。
而中国这4种光刻胶的自给率约为30%、5%、1%、0%，可见基本上都要入口，只有最为掉队的g线/i线才表现不错，而越前辈的光刻胶，自给率就越低，EUV这种直接无法制造。
对此，不知道大家怎么看？在芯片制造的过程中，光刻机这样的设备不可短缺，而光刻胶这种材料，也是不可短缺。
以是，我们在关注光刻机等各种半导体设备时，也同样该当多关注光刻胶这种材料，只有设备、材料全打破了，才能真正不被卡脖子。
